| 主权项 |
1.一种双光束雷射二极体,其包括:第一雷射二极体,该第一雷射二极体中设有第一光束发射体;第二雷射二极体,该第二雷射二极体中设有第二光束发射体;基台,该基台上设有第一雷射二极体、第二雷射二极体;综组上述构件,第一雷射二极体设于第二雷射二极体上,第二雷射二极体则设于基台上,而该第一光束发射体与第二光束发射体其间距极细微,而设于第一雷射二极体上之第一光束发射体与设于第二雷射二极体上之第二光束发射体各可发射光束者。2.如申请专利范围第1项所述之双光束雷射二极体,其中该第一光束发射体与第二光束发射体其间距极细微,其可达至3m至5m者。3.如申请专利范围第1项所述之双光束雷射二极体,其中可改变第一光束发射体与第二光束发射体,而依其所须光束形状投射出细光点状、长条状或其他几何形状者。4.如申请专利范围第1项所述之双光束雷射二极体,其中第一光束发射体所发射第一光束与第二光束发射体所发射第二光束,可依其使用所需将第一或第二以可见光或不可见光方之方式互相交互运用者。5.如申请专利范围第1项所述之双光束雷射二极体,其中该基台亦可为具有导体之材质者。6.如申请专利范围第5项所述之双光束雷射二极体,其中具有导体之材质者以金属板为最佳者。7.如申请专利范围第5项所述之双光束雷射二极体,其中具有导体之材质者以树脂线路板为最佳者。图式简单说明:第一图系本创作双光束雷射二极体之双光束发射示意图。第二图系本创作双光束雷射二极体之双光束发射另一示意图。第三图系本创作双光束雷射二极体之第一光束发射体与第二光束发射体之局部放大示意图。第四图系本创作双光束雷射二极体之立体图。第五图系本创作双光束雷射二极体之第一光束发射体发射第一光束之示意图。第六图系本创作双光束雷射二极体之第二光束发射体发射第二光束之示意图。第七图系本创作双光束雷射二极体之第一光束发射体与第二光束发射体之正面局部放大示意图。第八图系本创作双光束雷射二极体之双光束发射端成点状之示意图。第九图系本创作双光束雷射二极体之双光束发射端成条状之示意图。 |
