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发明名称
METHOD FOR MEASURING THICKNESS OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
摘要
申请公布号
JPH02307002(A)
申请公布日期
1990.12.20
申请号
JP19890129311
申请日期
1989.05.23
申请人
MITSUBISHI ELECTRIC CORP
发明人
KOMARU MAKIO
分类号
G01B7/06
主分类号
G01B7/06
代理机构
代理人
主权项
地址
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