发明名称 METHOD FOR MEASURING THICKNESS OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
摘要
申请公布号 JPH02307002(A) 申请公布日期 1990.12.20
申请号 JP19890129311 申请日期 1989.05.23
申请人 MITSUBISHI ELECTRIC CORP 发明人 KOMARU MAKIO
分类号 G01B7/06 主分类号 G01B7/06
代理机构 代理人
主权项
地址