发明名称 氟气产生装置及氟气产生方法以及氟气
摘要 一种氟气产生装置,系将由KF.2HF组成的电解浴24加以电解来产生高纯度氟气之形态的氟气产生装置,其特征为具备:将KF或KF.HF调制成KF.2HF的调制系统A、将HF供给至前述电解浴24和前述调制系统A中的HF供给系统B、及将藉由前述调制系统A所调制出来的KF.2HF加以电解来产生氟气的氟气产生系统C。
申请公布号 TW200301316 申请公布日期 2003.07.01
申请号 TW091136005 申请日期 2002.12.12
申请人 东洋炭素股份有限公司 发明人 东城哲朗;平岩次郎;竹林仁;多田良臣
分类号 C25B9/00 主分类号 C25B9/00
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本