光罩组合及其形成细线图案之曝光方法

摘要

本发明揭露一种光罩组合，包括：一第一光罩，具有平行且交错排列之复数相位0度透光区与复数相位180度透光区；以及一第二光罩，具有一透明基底与一条状遮光层，其中上述条状遮光层覆盖于上述透明基底部分表面，上述条状遮光层之宽度不小于上述相位0度透光区与上述相位180度透光区之间距。本发明亦揭露透过光罩组合曝光以形成细线图案之方法。