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发明名称 Antistatic photo-resist.
摘要 <p>A photo-resist (3), for use as a mask in implanting ions into a semiconductor substrate (1), comprises an antistatically effective amount of an antistatic agent.</p>
申请公布号 EP0265135(A2) 申请公布日期 1988.04.27
申请号 EP19870308997 申请日期 1987.10.12
申请人 MITSUBISHI DENKI KABUSHIKI KAISHA;MITSUBISHI CHEMICAL INDUSTRIES LIMITED 发明人 MIURA, KONOE;OCHIAI, TAMEICHI;KAMEYAMA, YASUHIRO;KOYAMA, TOORU C/O MITSUBISHI DENKI K.K.;OKABE, TAKASHI C/O MITSUBISHI DENKI K.K.;MAMETANI, TOMOHARU C/O MITSUBISHI DENKI K.K.
分类号 G03C1/00;G03F7/004;G03F7/022;H01L21/027 主分类号 G03C1/00
代理机构 代理人
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