发明名称 EXPOSURE APPARATUS
摘要 본 발명의 노광 장치는, 기판(W)을 보유 지지하여 왕복 이동 및 승강이 가능한 기판 보유 지지 스테이지(110)와, 마스크 패턴(M2)이 기판(W)의 감광면(M1)에 대면하도록 마스크판(310)을 보유 지지하는 노광 스테이지(320)와, 기판 보유 지지 스테이지(110)와 함께 진행되어, 마스크판(310)의 패턴면(M2)을 가압하는 방향의 힘(제1 방향의 힘)에 의해 패턴면(M2)의 표면에 접촉하여 회전하면서 제진해 가는 마스크 제진부(120)와, 기판 보유 지지 스테이지(110)의 진행에 의해, 기판(W)의 감광면(M1)을 가압하는 방향의 힘(제2 방향의 힘)에 의해 기판(W)의 감광면(M1)에 접촉하여 회전하면서 제진해 가는 기판 제진부(210)를 구비한다. 본 발명의 노광 장치에 의하면, 기판의 감광면 및 마스크의 표면을 제진하기 위한 기구 전체를 간단화할 수 있는 동시에, 대량의 기판을 고속으로 노광 가능하게 한다.
申请公布号 KR101669746(B1) 申请公布日期 2016.10.27
申请号 KR20147034516 申请日期 2014.05.12
申请人 베아크 가부시끼가이샤 发明人 가토 가즈히코;하뉴 신이치
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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