| 发明名称 | 取向膜转印版浸泡设备 | ||
| 摘要 | 本实用新型公开了一种取向膜转印版浸泡设备，包括：密闭腔室；以及位于密闭腔室内的至少一层浸泡台，其被配置为浸泡取向膜转印版。 | ||
| 申请公布号 | CN205665487U | 申请公布日期 | 2016.10.26 |
| 申请号 | CN201620503666.3 | 申请日期 | 2016.05.30 |
| 申请人 | 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司;京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 张秀富;孟战虎 |
| 分类号 | G02F1/13(2006.01)I;G02F1/1337(2006.01)I | 主分类号 | G02F1/13(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人 | 张亚非;李峥 |
| 主权项 | 一种取向膜转印版浸泡设备，包括：密闭腔室；以及位于密闭腔室内的至少一个浸泡台，其被配置为浸泡取向膜转印版。 | ||
| 地址 | 017020 内蒙古自治区鄂尔多斯市东胜区装备制造基地 | ||