发明名称 投影曝光装置及校正照明光束动态位置误差的装置与方法
摘要 本发明提供一种投影曝光装置及校正照明光束动态位置误差的装置与方法,所述投影曝光装置结构把照明系统从照明镜组的光瞳处分离,并将照明镜组光瞳后的光学元件安装在掩模台所在的主框架上,同时将照明镜组光瞳前的光学元件安装在照明系统所在的机械框架上,从而把照明光的位移误差转换为微小的远心角误差;所述校正光刻机照明光束动态位置误差的装置及方法则进一步减小远心角误差。采用本发明能够把照明光相对物镜的较小的位移转换成该光瞳远心度或照明远心角的微弱变化,并利用照明远心角的微弱变化对光刻机各项性能影响很小的优点,改善扫描剂量性能。
申请公布号 CN101339367A 申请公布日期 2009.01.07
申请号 CN200810041705.2 申请日期 2008.08.14
申请人 上海微电子装备有限公司 发明人 张俊
分类号 G03F7/20(2006.01);G02B27/00(2006.01) 主分类号 G03F7/20(2006.01)
代理机构 上海思微知识产权代理事务所 代理人 屈蘅;李时云
主权项 1、一种投影曝光装置,包括用于产生照明光束的照明系统,其包含一照明镜组,用于承载掩模版的掩模台,用于利用所述照明光束将所述掩模版内图案成像到曝光对象上的物镜,以及用于承载曝光对象的工件台,其特征在于:所述照明系统从照明镜组的光瞳处分离,且照明镜组光瞳后的光学元件安装连接到物镜所在的一主框架上,照明镜组光瞳前的光学元件安装连接到照明系统所在的一机械框架上。
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