发明名称 形成多层互连结构方法、电路板制造方法及制造器件方法
摘要 公开了一种形成多层互连结构的方法,经由绝缘层叠加第一导电层和第二导电层,并通过在所述绝缘层中形成的触孔,连接所述第一导电层和所述第二导电层,其特征在于:所述方法包括步骤:在衬底上形成第一导电层;在第一导电层上形成具有触孔的绝缘层;利用液滴排放装置供给液体接触材料,并通过烘焙固化所述触孔内的液体接触材料,填充具有导电材料的触孔,在所述触孔内形成导电接触件;以及经由导电接触件电连接形成第二导电层,形成具有所述触孔的绝缘层,包括:在第一导电层上的预定触孔形成区中形成掩模;在除掩模之外的第一导电层上形成绝缘层;以及移除掩模以在绝缘层中形成用作触孔的通孔。
申请公布号 CN1327481C 申请公布日期 2007.07.18
申请号 CN200410062828.6 申请日期 2004.06.25
申请人 精工爱普生株式会社 发明人 田中英树;汤田坂一夫;佐藤充
分类号 H01L21/02(2006.01);H01L21/768(2006.01);H05K3/46(2006.01) 主分类号 H01L21/02(2006.01)
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 宋合成
主权项 1.一种形成多层互连结构的方法,经由绝缘层叠加第一导电层和第二导电层,并通过在所述绝缘层中形成的触孔,连接所述第一导电层和所述第二导电层,其特征在于,所述方法包括步骤:在衬底上形成第一导电层;在第一导电层上形成具有触孔的绝缘层;利用液滴排放装置向所述触孔内供给液态接触形成材料,并通过烘焙固化所述触孔内的液态接触形成材料,而在所述触孔内填充导电材料,以便形成导电接触件;以及以与导电接触件电连接的形式形成第二导电层,形成具有所述触孔的绝缘层,包括:在第一导电层上的预定触孔形成区中形成掩模;在除形成的掩模之外的第一导电层上形成绝缘层;以及移除掩模以在绝缘层中形成用作触孔的通孔。
地址 日本东京