| 发明名称 | 一种Ti-Si-N纳米晶-非晶复合超硬涂层的制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种Ti-Si-N纳米晶-非晶复合超硬涂层的制备方法。该方法利用磁场控制的高密度电弧放电使Ti电弧靶蒸发Ti，通入氮气和蒸发出的Ti反应生成TiN，同时通入硅烷，把硅烷(SiH<sub>4</sub>)离化分解成Si离子和H离子，Si离子和氮反应生成Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub>。在偏压下，TiN晶体和Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub>相同时竞争生长于工件基体上成膜，形成Ti-Si-N纳米晶-非晶复合涂层。本发明制备的Ti-Si-N纳米晶复合涂层具有涂层硬度高、附着力强、涂层生长速率快、生产效率高、生产成本低、涂层设备结构简单等特点，根据使用要求可在硬质合金、不锈钢、碳钢等各类工件上进行不同厚度Ti-Si-N纳米晶-非晶复合超硬涂层的制备。 | ||
| 申请公布号 | CN101457359A | 申请公布日期 | 2009.06.17 |
| 申请号 | CN200810197643.4 | 申请日期 | 2008.11.14 |
| 申请人 | 武汉大学 | 发明人 | 杨兵;杨种田;丁辉;付德君 |
| 分类号 | C23C28/00(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C23C14/24(2006.01)I;C23C14/14(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I;C23C16/30(2006.01)I | 主分类号 | C23C28/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 武汉华旭知识产权事务所 | 代理人 | 刘 荣 |
| 主权项 | 1. 一种Ti-Si-N纳米晶-非晶复合超硬涂层的制备方法，其特征在于：将需涂层工件经清洗后放置于真空室中，在0.1～3Pa、负50～负250V偏压及400-450℃的条件下，首先利用磁场控制的金属Ti靶电弧放电制备Ti过渡层；然后利用Ti电弧靶蒸发Ti并与通入真空室的氮气反应生成TiN，同时通入SiH4气体，利用电弧放电的高强度等离子体把SiH4离化分解成Si离子和H离子，Si离子和真空室中的氮反应生成Si3N4；在偏压的作用下，TiN晶体和Si3N4相同时竞争生长于工件基体上成膜，形成Ti-Si-N纳米晶-非晶复合超硬涂层。 | ||
| 地址 | 430072湖北省武汉市武昌珞珈山 | ||