| 摘要 |
第一のガスを供給するための第一のガス源；前記第一のガスとは異なる第二のガスを供給するための第二のガス源；第一のガスの流量を調節するための第一のバルブ；第二のガスの流量を調節するための第二のバルブ；第一および第二のバルブの下流に配置され、使用時に、第一および第二のガスを混合して混合ガスを提供するように構成されるミキサー；混合ガスと接触する高周波平面型圧電水晶発振器および大気圧を特定するように作動可能であるセンサーを含む、混合ガスの平均分子量を測定するように構成されるメーター；ならびに前記混合ガス中の第一および第二のガスの相対的比率を制御する目的で、前記混合ガスの測定された平均分子量に応答して、前記第一および第二のバルブのうちの少なくとも一方を制御するように作動可能であるコントローラーを含むガスミキサー設備が提供される。 |
