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Verfahren zur gleichzeitigen Optimierung verschiedener Schichteigenschaften durch Steuerung eines Vakuumabscheideprozesses, bei dem ein Substrat in einer Vakuumkammer mittels eines aus einem mit einem Magnetron verbundenen Target herausgelösten Materials unter Anlegen einer von einer geregelten Spannungsquelle bereitgestellten Targetspannung zwischen dem Target und einer Gegenelektrode und unter Einleitung eines Prozessgases in die Vakuumkammer in einem Prozessraum beschichtet wird, wobei ein optisches Emissionsspektrum aufgenommen wird und aus Intensitäten von Spektrallinien der an dem Beschichtungsprozess beteiligten Prozessmaterialien, prozesssignifikante Daten des Vakuumabscheideprozesses zur Weiterverarbeitung in Mess- oder Regelungsprozessen ermittelt und verwendet werden, dadurch gekennzeichnet, dass zur Steuerung eines ersten Schichtparameters a von mindestens drei Prozessmaterialen Spektrallinien Ii, Ij,i≠j aus dem optischen Emissionsspektrum ermittelt werden, dass aus einem ersten Prozessmaterial mindestens vier Intensitäten I1, ...I4 ermittelt werden und aus jeweils zwei der vier Intensitäten mindestens drei Relativintensitäten R1, R2, R3 durch eine erste mathematische Verknüpfung f1(I1, Ij),i≠j gebildet werden, dass aus einem zweiten Prozessmaterial mindestens eine Intensität I5 ermittelt und dass aus einem dritten Prozessmaterial mindestens eine Intensität I6 ermittelt wird und aus diesen eine Relativintensität R4 durch die erste mathematische Verknüpfung f1(Ii, Ij),i≠j gebildet wird, dass aus den Relativintensitäten R1, R2, R3 und R4 mit einer zweiten mathematischen Verknüpfung f2(Ri) eine erste Relativintensiätsverknüpfung IV_1 als erstes prozesssignifikantes Datum zur Steuerung des ersten Schichtparameters a berechnet wird, dass zur Steuerung eines zweiten Schichtparameters b von mindestens zwei Prozessmaterialen Spektrallinien Ii, Ij,i≠j aus dem optischen Emissionsspektrum ermittelt werden, dass aus dem ersten Prozessmaterial mindestens sechs Intensitäten I7, ...I12 ermittelt werden und aus jeweils zwei der sechs Intensitäten mindestens drei Relativintensitäten R5, R6, R7 durch die erste mathematische Verknüpfung f1(Ii, Ij),i≠j gebildet werden, dass aus einem vierten Prozessmaterial mindestens eine Intensität I13 ermittelt und aus dem ersten Prozessmaterial mindestens eine weitere Intensität I14 ermittelt wird und aus diesen eine Relativintensität R8 durch die erste mathematische Verknüpfung f1(Ii, Ij),i≠j gebildet wird, dass aus den Relativintensitäten R5, R6, R7 und R8 mit einer zweiten mathematischen Verknüpfung f2(Ri) eine zweite Relativintensiätsverknüpfung IV_2 als zweites prozesssignifikantes Datum zur Steuerung des zweiten Schichtparameters b berechnet wird. |
