发明名称 Phasenänderungsspeicher und Verfahren zum Herstellen derselben
摘要 Es sind Phasenänderungsspeicher geschaffen, die ein Auswahlelement (120) aufweisen, das mit einem Phasenänderungsmaterialmuster (130) elektrisch verbunden ist. Das Auswahlelement (120) weist einen metallischen Leiter (116) und einen Halbleiter (114a), die miteinander in Kontakt sind, auf. Eine Verarmungsregion, die in Kontakt mit einem metallischen Muster ist, wird in einem Gleichgewichtszustand in dem Halbleiter (114a) erzeugt. Die Verarmungsregion weist eine Region mit einer hohen Barriere, die eine elektrische Potentialbarriere hat, die höher als eine elektrische Grenzflächen-Potentialbarriere ist, und eine Region mit einer niedrigen Barriere, die eine elektrische Potentialbarriere hat, die niedriger als die elektrische Grenzflächen-Potentialbarriere ist, auf. Verwandte Verfahren sind ebenfalls geschaffen.
申请公布号 DE102008031070(A1) 申请公布日期 2009.01.29
申请号 DE200810031070 申请日期 2008.07.01
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO. LTD. 发明人 KIM, NAM-BIN
分类号 H01L27/24 主分类号 H01L27/24
代理机构 代理人
主权项
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