一种基板处理装置

摘要

本实用新型公开了一种基板处理装置，属于平板显示技术领域。本实用新型包括一种基板处理装置至少包括一负极机构，负极机构至少包括一第一靶位以及对应第一靶位的第一驱动机构，第一靶位具有第一靶材以及至少一第一磁钢；第一靶材固定于第一靶位，第一磁钢设置于第一靶材相背基板的一侧；第一驱动机构驱动第一磁钢在第一靶材范围内沿第一方向及第二方向往复运动形成第一磁场，第一方向与第二方向相反；第一磁钢在平行于第一方向上的第一跨度不大于第一靶材在第一方向上的第二跨度的八分之一。本实用新型通过设定磁钢的第一跨度、移动路径及移动速度，使移动磁钢充分轰击靶材。

主权项

一种基板处理装置，其至少包括：一负极机构，所述负极机构至少包括一第一靶位以及对应所述第一靶位的第一驱动机构，所述第一靶位具有第一靶材以及至少一第一磁钢；所述第一靶材固定于所述第一靶位，所述第一磁钢设置于所述第一靶材相背基板的一侧；所述第一驱动机构驱动所述第一磁钢在所述第一靶材范围内沿第一方向及第二方向往复运动形成第一磁场，所述第一方向与所述第二方向相反；所述第一磁钢在平行于所述第一方向上的第一跨度不大于所述第一靶材在所述第一方向上的第二跨度的八分之一。