发明名称 RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION INFRARED SHIELDING FILM FORMATION METHOD FOR SAME AND SOLID-STATE IMAGING DEVICE LIGHT SENSOR
摘要 본원 발명에 관한 감방사선성 수지 조성물에 의하여, 높은 적외선 차폐성을 갖는 막을 형성할 수 있다. 이 적외선 차폐막은, 고체 촬상 소자, 조도 센서에 이용할 수 있다. 이 감방사선성 수지 조성물은, [A] 동일 또는 상이한 중합체 분자 중에 산 해리성기를 포함하는 구조 단위와 가교성기 함유 구조 단위를 갖는 중합체, [B] 감방사선성 산 발생체, 그리고 [C] 적외선 차폐재를 함유한다.
申请公布号 KR20160126906(A) 申请公布日期 2016.11.02
申请号 KR20160049307 申请日期 2016.04.22
申请人 JSR CORPORATION 发明人 ICHINOHE DAIGO;KAWAI TAKAHIRO
分类号 G03F7/004;G02B5/28;G03F7/32 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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