发明名称 RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
摘要 [과제] 형상이 양호하고, 또한 박리성이 우수한 레지스트 패턴을 제조할 수 있는 레지스트 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다. [해결 수단] 산 불안정기를 갖는 수지, 산발생제, 페놀성 수산기를 2개 이상 갖는 화합물(단, 수지는 제외한다) 및 용제를 함유하는 레지스트 조성물. 예를 들면 산 불안정기를 갖는 수지가 식 (a1-2)로 나타내어지는 구조 단위를 포함하는 수지이다.[식 중, R및 R는, 서로 독립적으로, 수소 원자 또는 탄화수소기; R는 탄화수소기를 나타내거나, R가 수소 원자 또는 탄화수소기를 나타내고, R및 R가 서로 결합하여 2가의 탄화수소기를 나타내고, 이들 탄화수소기에 포함되는 메틸렌기는 산소 원자 또는 유황 원자로 치환되어도 된다; R는 수소 원자 또는 메틸기; R은 알킬기 또는 알콕시기; mx는 0∼4의 정수를 나타낸다.]
申请公布号 KR20160117372(A) 申请公布日期 2016.10.10
申请号 KR20160039802 申请日期 2016.03.31
申请人 SUMITOMO CHEMICAL CO., LTD. 发明人 SUGIHARA MASAKO;NAKANISHI JUNJI
分类号 G03F7/004;C08L25/16;C08L63/04 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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