发明名称 |
增亮阻隔膜及具有该增亮阻隔膜的量子点膜、背光模组 |
摘要 |
本实用新型提供一种增亮阻隔膜及具有该增亮阻隔膜的背光模组,增亮阻隔膜包括基材层,依次层设在基材层顶面上的无机镀层、聚合物层,以及设置在基材层底面的增亮层,增亮层呈连续式半圆球状分布。本实用新型所述的增亮阻隔膜层结构简单,增亮效果好,其应用到背光模组中,背光模组中可无需棱镜膜聚光增亮。 |
申请公布号 |
CN205484878U |
申请公布日期 |
2016.08.17 |
申请号 |
CN201620047185.6 |
申请日期 |
2016.01.16 |
申请人 |
汕头万顺包装材料股份有限公司;汕头万顺包装材料股份有限公司光电薄膜分公司 |
发明人 |
胡文玮 |
分类号 |
G02B1/115(2015.01)I;G02F1/13357(2006.01)I |
主分类号 |
G02B1/115(2015.01)I |
代理机构 |
广州市深研专利事务所 44229 |
代理人 |
张喜安 |
主权项 |
一种增亮阻隔膜(33),具有基材层(331),其特征在于:增亮阻隔膜(33)包括依次层设在基材层(331)顶面上的无机镀层(332)、聚合物层(333),以及设置在基材层(331)底面的增亮层(334),增亮层(334)呈连续式半圆球结构分布。 |
地址 |
515078 广东省汕头市濠江区汕头保税区万顺工业园 |