| 发明名称 |
Synthetisches Siliziumdioxid mit geringer polarisationsinduzierter Doppelbrechung, Verfahren zur Herstellung selbigen Materials und Lithografiegerät, welches selbiges umfasst |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE112005003341(T5) |
申请公布日期 |
2008.02.28 |
| 申请号 |
DE200511003341T |
申请日期 |
2005.12.29 |
| 申请人 |
CORNING INCORPORATED |
发明人 |
ALLAN, DOUGLAS C.;BOOKBINDER, DANA C.;NEUKIRCH, ULRICH;SMITH, CHARLENE M. |
| 分类号 |
C03C3/06;C03B19/14;C03C4/00 |
主分类号 |
C03C3/06 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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