发明名称 附静电吸盘之陶瓷加热器
摘要 本发明之附静电吸盘之陶瓷加热器其目的系提供一种使用于半导体制程中的昇降温过程之具有良好之温度分布均一性之付静电吸盘之陶瓷加热器,其构成系:于由电气绝缘性陶瓷所成之支持基材之表面接合由导电性陶瓷所成之静电吸盘用电极,并于侧面及背面接合由导电性陶瓷所成之发热层,于这些上面设置由电气绝缘性陶瓷所合成之覆盖层者为其特征。
申请公布号 TW289147 申请公布日期 1996.10.21
申请号 TW084100388 申请日期 1995.01.17
申请人 东京电子股份有限公司;信越化学工业股份有限公司 发明人 川田敦雄;石川贤治;长尾贵章;浦野和彦;荒见淳一;进藤敏彦
分类号 H01L23/34 主分类号 H01L23/34
代理机构 代理人 林志刚 台北巿南京东路二段一二五号七楼;林敏生 台北巿南京东路二段一二五号七楼伟成第一大楼
主权项 1. 一种附静电吸盘之陶瓷加热器,其特征为:系于由电气绝缘性陶瓷所成之支持基材之表面接合由导电性陶瓷所成的静电吸盘用电极,并且于侧面及背面接合由导电性陶瓷所成的发热层,并于这些上面设置由电气绝缘性陶瓷所成之覆盖层。2. 如申请专利范围第1项之附静电吸盘之陶瓷加热器,其中前述之支持基材及该覆盖层系为:氮化硼、氮化硼和氮化铝之以3:1之比率混合成的混合物、或氮化矽;该静电吸盘用电极及该发热层系为:石墨或碳化矽者。3.如申请专利范围第2项之附静电吸盘之陶瓷加热器,其中前述之支持基材系为:以[线膨胀系数最大値/线膨胀系数最小値]所表示的热膨胀异方性小于3之氮化硼、或氮化硼和氮化铝之混合物者。4. 如申请专利范围第2项之静电吸盘之陶瓷加热器,其中前述之该静电吸盘用电极、该发热层及该覆盖层系利用化学汽相沈析法所制造者。5. 如申请专利范围第1.2或3项之附静电吸盘之陶瓷加热器,其中于该覆盖层上系接合有扩散防止层者。6.如申请专利范围第5项之附静电吸盘之陶瓷加热器,其中前述之该扩散防止层系为:氧化矽或氮化矽者。图示简单说明:第1图系本发明之附静电吸盘之陶瓷加热一例之纵断面图
地址 日本