| 主权项 |
1.一种扫描细缝曝光装置,其包括一具有射出窗之辐射源以在射出窗提供辐射脉波来照射一表面,一成像系统用于将射出窗成像在表面上,及扫描装置用于在扫描方向相互地扫描射出窗之成像及表面,其特征在于在该辐射脉波行进之路径上设置一散射元件,该散射元件使该射出窗成像变得模糊。2.根据申请专利范围第1项之扫描细缝曝光装置,其特征在于该散光元件仅在该扫描方向将该射出窗成像变得模糊。3.根据申请专利范围第1或2项之扫描细缝曝光装置,其特征在于该散光元件实际上为该成像系统之瞳孔。4.根据申请专利范围第1或2项之扫描细缝曝光装置,其特征在于该散光元件将沿着入射角进入及由射出角离开该散光元件之辐射分布的方式,使得辐射能量在射出角之分布恰巧等于高斯分布。5.根据申请专利范围第1或2项之扫描细缝曝光装置,其特征在于该散光元件包括具有槽道图型之透明片。6.一种石版印刷投影装置,其包括一具有射出窗之辐射源以在射出窗提供辐射脉波来照射一具有图案光罩之表面,一第一成像系统用于将射出窗成像在表面上,及扫描装置用于在扫描方向相互地扫描射出窗之成像及光罩表面,一具有光感层之基层及一投影镜片以将图案成像在光感层上,其特征在于在该辐射脉波行进之路径上及于该射出窗及该光罩之间设置一散射元件,该散射元件使该射出窗成像变得模糊。图式简单说明:第一图为根据本创作石版印刷扫描投影装置之一实施例;第二图揭露出在散光元件之后辐射之角位性分布及射出窗成像之边缘强度;及第三图揭露出散光元件之实施例。 |
