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经营范围
发明名称
压印制程
摘要
一种压印(Imprinting)制程,至少包括提供一压印模板,其中此压印模板之一表面具有一图案;形成一热稳定高分子聚合物层覆盖于上述压印模板之表面上,其中此热稳定高分子聚合物层填平压印模板之图案,而使热稳定高分子聚合物层之表面上具有相对于图案之互补图案;形成一光阻层覆盖于热稳定高分子聚合物层上;形成一透明基材覆盖在光阻层上;进行一照射步骤,藉以使光阻层产生聚合;移除压印模板;以及进行一图案化步骤,藉以将热稳定高分子聚合物层上之互补图案转移至透明基材上。
申请公布号
TW200528924
申请公布日期
2005.09.01
申请号
TW093104663
申请日期
2004.02.24
申请人
国立成功大学
发明人
锺宜璋;邱逸闳;洪敏雄;洪昭南
分类号
G03F7/075
主分类号
G03F7/075
代理机构
代理人
蔡坤财
主权项
地址
台南市东区大学路1号
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