| 摘要 |
본 기술은 고분자 입자를 압출성형하여 고분자 입자가 서로 넥킹(necking)된 구조를 갖는 성형체를 제조하는 단계; 성형체를 경화반응시키는 단계; 및 경화된 성형체를 탄화시키는 단계를 포함하는 다공성 탄소재의 제조방법 및 이에 따라 제조된 다공성 탄소재에 관한 것이다. 본 기술에 따르면, 균일한 미세 기공 구조를 갖는 탄소재가 형성되어 부식성 가스를 균일하게 투과시킬 수 있으므로 반도체 에칭 공정에 있어서 캐소드로서 적용되어 에칭 공정 효율을 높일 수 있다. 또한, 본 기술에 따라 제조된 다공성 탄소재는 내부식성 및 강도가 우수하여 에칭에 적용되더라도 장기간 미세한 기공 구조를 잘 유지할 수 있어 수명이 향상되고 경제적이다. |
