| 摘要 |
본 발명은 기체 상에서 실리콘 기판의 표면을 텍스처링하는 방법 및 태양 전지용 텍스처화된 실리콘 기판을 제공한다. 상기 방법은 적어도 하나의, 상기 표면을 2분 내지 30분 범위의 시간 동안 SF/O비가 2 내지 10 범위인 SF/O고주파 플라즈마에 노출시켜 피라미드 구조를 나타내는 텍스처화된 표면을 갖는 실리콘 기판을 제조하는 단계 a)를 포함한다. 본 발명에 따르면, 역전된 형의 피라미드 구조를 갖는 텍스처화된 표면을 갖는 실리콘 기판을 제조하기 위하여 상기 고주파(radiofrequency) 플라즈마에 의해 발생 되는 출력 밀도(power density)는 2500 mW/cm이상이고, 상기 반응 챔버 내의 SF/O의 압력은 100 mTorr 이하이다. |
