| 主权项 |
1.一种流体混合装置,包括:至少一缓冲室,其上方设有一上入流管可将第一流体以垂直方向导入,其侧方设有至少一侧入流管可将第二流体以水平方向导入,其下方设有出流管;以及至少一锥状搅拌头,系设于缓冲室之中心处其表面设有复数个导流面,上入流管所落下之第一流体在经过导流面的导流后,可以将第一流体以水平方式向外喷出,并与侧入流管之第二流体混合,其混合后之流体将由缓冲室之出流管导出。2.如申请专利第1项所述之流体混合装置,其中该缓冲室之侧入流管系以二个并且以对称设置为最佳。3.如申请专利第1项所述之流体混合装置,其中该锥状搅拌头之导流面将第一流体水平向外喷出时,系以一适当的斜角喷出,使其可以与第二流体混合并在缓冲室内部转动。4.如申请专利第3项所述之流体混合装置,其中侧入流管之第二流体角度系朝向混合流体转动的方向喷出,以加速混合流体在缓冲室内部转动的速度。5.如申请专利第1项所述之流体混合装置,其中该锥状搅拌头在导流面末端系设有复数个喷嘴,使第一流体可以从上述喷嘴中喷出。6.如申请专利第5项所述之流体混合装置,其中上述喷嘴系以六个并且对称设置为最佳。7.如申请专利第1项所述之流体混合装置,其中该流体混合装置系包括二缓冲室以及二锥状搅拌头,且其中之一缓冲室之出流管系与另一缓冲室之上入流管相连接。8.如申请专利第7项所述之流体混合装置,其中在上述二缓冲室之连接管道系设有格子状之导孔。图式简单说明:图一系半导体厂供应酸液流体之示意图;图二A、二B系为本创作流体混合装置之第一实施例图;图三系为本创作之第二实施例图;图四系为流经格子状导孔所产生之紊流示意图。 |
