| 主权项 |
1911581.一种实施分离作业之装置,备有: (a)一个以上之分离模组;各模组具有供处理液用之入口及出口及供渗透液用之出口,该分离模组系设置于一掺透液容器内,该容器具有排除渗透液之装置; (b)具有入口及出口之压力装置,该压力装置出口系利用第一导管装置连接一个以上之该分离模组处理液入口,该分离模组处理液出口则藉第二导管装置连接该压力装置入口,故构成一回路; (c)一处理液供应装置,该处理液供应装置系藉第三导管装置连接该第二导管装置,流经该第三导管装置之流量系由第一阀所控制; (d)一渗透液位感应装置,该感应装置系用以感测该渗液容器内之渗透液位,并可操作连接于一阀控装置,该阀控装置系用以控制该第一阀者。2.如申请专利范围第1项所述之装置,尚备有连接该第一导管装置之第四导管装置,该第四导管装置系由第二阀所控制,该第二阀提供该回路之高压侧之处理液之渗出。3.如申请专利范围第1项所述之装置,尚备有复数个连接第一及第二导管装置之导管接头,该导管接头由复数个阀导管连接在一起,俾供该处理液顺向式逆向引流至该分离模组中,并提供负压予该分离模组之处理液入口或出口。4.如申请专利范围第1项所述之装置,其中该分离模组系一超过滤薄膜分离模组。5.如申请专利范围第1项所述之装置,其中该分离模组系一微过滤分离模组。6.如申请专利范围第1项所述之装置,其中该分离模组包含中空纤维超过滤薄膜。7.如申请专利范围第1项所述之装置,其中该分离模组包含中空纤维微过滤薄膜。8.一种薄膜分离系统之操作方法,其特征系: (a)将处理液引流通过一连续、再循环回路之一个以上分离模组,该分离模组系浸入该渗透液中者; (b)于渗透液液位低时将新处理液引流至该回路中。9.如申请专利范围第8项所述之方法,尚包括:使该回路高压侧之部分再循环处理液渗出,藉以去除该回路中之悬浮固体。10.一种设置于一连续、再循环回路之薄膜分离系统之清净方法,其特征系: (a)关闭馈流阀; (b)顺向快速冲流该系统; (c)逆向快速冲流该系统; (d)真空冲流该系统。 |
