| 发明名称 |
METHOD AND APPARATUS FOR FORMING LAYOUT PATTERN OF SEMICONDUCTOR INTEGATED CIRCUIT |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR930011055(B1) |
申请公布日期 |
1993.11.20 |
| 申请号 |
KR19890016142 |
申请日期 |
1989.11.08 |
| 申请人 |
FUJITSU LTD. |
发明人 |
OHOE, RYOICHI;YAMASHIDA, KOICHI |
| 分类号 |
H01L21/822;G06F17/50;H01L21/82;H01L27/04;H01L27/118;(IPC1-7):H01L21/82 |
主分类号 |
H01L21/822 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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