发明名称 |
双金属氧化物-氮化物-氧化物半导体阵列金属位结构及单个单元操作 |
摘要 |
本发明提供一种双MONOS金属位线阵列的寻址方法,其读取及程序化一双MONOS金属位线阵列,其使用一具有X、Y及Z维的三维程序化方法,字线地址为X地址,控制栅极线地址为X及Z地址的函数、且位线地址为X及Y地址的函数,因为内存阵列的位线及控制栅极线呈直角,所以可清除一单个单元及一相邻的内存,该相邻的内存具有相同已选择位及控制栅极线,其要抑制藉由施加适当电压到未选择字组、控制栅极及位线上的清除。 |
申请公布号 |
CN1494086A |
申请公布日期 |
2004.05.05 |
申请号 |
CN02146167.8 |
申请日期 |
2002.10.30 |
申请人 |
哈娄利公司 |
发明人 |
大仓世纪;齐藤智也;大仓智子 |
分类号 |
G11C16/04;H01L27/115;H01L21/8247 |
主分类号 |
G11C16/04 |
代理机构 |
北京三友知识产权代理有限公司 |
代理人 |
李辉 |
主权项 |
1.一种双MONOS金属位线阵列的寻址方法,包括:a)把一低字线地址到一高字线地址标记为字线;b)把一低控制栅极地址到一高控制栅极地址标记为控制栅极线;c)把一低位线地址数目到一高位线地址数目标记为位线,且对于每个该地址数目有一个“偶数”及“奇数”的额外指定;d)选择一组三维地址“X”、“Y”、及“Z”;e)选择该字线地址作为“X”地址;f)选择该控制栅极地址作为“X”及“Z”地址的函数;及g)选择该位地址作为“Y”及“Z”地址的函数,且不管控制栅极地址是“偶数”或“奇数”。 |
地址 |
美国纽约州 |