发明名称 双金属氧化物-氮化物-氧化物半导体阵列金属位结构及单个单元操作
摘要 本发明提供一种双MONOS金属位线阵列的寻址方法,其读取及程序化一双MONOS金属位线阵列,其使用一具有X、Y及Z维的三维程序化方法,字线地址为X地址,控制栅极线地址为X及Z地址的函数、且位线地址为X及Y地址的函数,因为内存阵列的位线及控制栅极线呈直角,所以可清除一单个单元及一相邻的内存,该相邻的内存具有相同已选择位及控制栅极线,其要抑制藉由施加适当电压到未选择字组、控制栅极及位线上的清除。
申请公布号 CN1494086A 申请公布日期 2004.05.05
申请号 CN02146167.8 申请日期 2002.10.30
申请人 哈娄利公司 发明人 大仓世纪;齐藤智也;大仓智子
分类号 G11C16/04;H01L27/115;H01L21/8247 主分类号 G11C16/04
代理机构 北京三友知识产权代理有限公司 代理人 李辉
主权项 1.一种双MONOS金属位线阵列的寻址方法,包括:a)把一低字线地址到一高字线地址标记为字线;b)把一低控制栅极地址到一高控制栅极地址标记为控制栅极线;c)把一低位线地址数目到一高位线地址数目标记为位线,且对于每个该地址数目有一个“偶数”及“奇数”的额外指定;d)选择一组三维地址“X”、“Y”、及“Z”;e)选择该字线地址作为“X”地址;f)选择该控制栅极地址作为“X”及“Z”地址的函数;及g)选择该位地址作为“Y”及“Z”地址的函数,且不管控制栅极地址是“偶数”或“奇数”。
地址 美国纽约州
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