| 主权项 |
1.一种影像处理方法,其特征在于包含:差値算出步骤,系将事先输入之基准影像旋转而得之旋转影像与前述基准影像之差値,针对前述基准影像内之复数基准点分别算出;遮罩图案形成步骤,系依据前述复数点之前述差値来形成遮罩图案;及位置检测步骤,系使用拍摄有检测对象之检测对象影像、前述基准影像及前述遮罩图案,藉由图案匹配来检测前述检测对象之位置。2.如申请专利范围第1项之影像处理方法,其中,前述差値算出步骤系执行于,由前述旋转影像与前述基准影像之一致量成为最大之两者的相对位置起,在既定范围内之前述旋转影像与前述基准影像的相对位置。3.如申请专利范围第1项之影像处理方法,其中,前述差値算出步骤,系针对彼此相异之复数旋转角度来执行;前述遮罩图案形成步骤,系包含用以形成最大値影像之最大値影像形成步骤,该最大値影像,系对前述复数旋转角度所算出之前述基准点之前述差値的绝对値中,将从最大値起在既定范围内之差値的绝对値当成针对该基准点之评价値来含有。4.如申请专利范围第2项之影像处理方法,其中,前述差値算出步骤,系针对彼此相异之复数旋转角度来执行;前述遮罩图案形成步骤,系包含用以形成最大値影像之最大値影像形成步骤,该最大値影像,系对前述复数旋转角度所算出之前述基准点之前述差値的绝对値中,将从最大値起在既定范围内之差値的绝对値当成针对该基准点之评价値来含有。5.如申请专利范围第3项之影像处理方法,其中,前述遮罩图案形成步骤进一步包含:比较步骤,将前述最大値影像中之各评价値与既定之阈値作比较;及选择步骤,选择高于前述阈値之基准点。6.如申请专利范围第4项之影像处理方法,其中,前述遮罩图案形成步骤进一步包含:比较步骤,将前述最大値影像中之各评价値与既定之阈値作比较;及选择步骤,选择高于前述阈値之基准点。7.如申请专利范围第1~6项中任一项之影像处理方法,其中,前述位置检测步骤包含去除处理步骤,在前述检测对象影像中,将对应前述遮罩图案之领域从前述图案匹配的对象中去除。8.一种影像处理装置,其特征在于包含:差値算出机构,系将事先输入之基准影像旋转而得之旋转影像与前述基准影像之差値,针对前述基准影像内之复数基准点分别算出;遮罩图案形成机构,系依据前述复数点之差値来形成遮罩图案;及位置检测机构,系使用拍摄有检测对象之检测对象影像、前述基准影像及前述遮罩图案,藉由图案匹配来检测前述检测对象之位置。9.一种打线装置,系包含申请专利范围第8项之影像处理装置而构成。图式简单说明:【图1】表示本发明之实施形态之打线装置之概略构成的方块图。【图2】表示新半导体装置之登录处理之一例的流程图。 |
