发明名称 |
PROCEDE DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF A SEMICONDUCTEUR |
摘要 |
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申请公布号 |
FR2779008(B1) |
申请公布日期 |
2005.08.26 |
申请号 |
FR19990006327 |
申请日期 |
1999.05.19 |
申请人 |
SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD |
发明人 |
YANG WON SUK;KIM KI NAM;CHO CHANG HYUM |
分类号 |
H01L21/336;H01L21/8234;H01L21/8238;H01L21/8242;H01L27/092;H01L27/108;(IPC1-7):H01L21/336 |
主分类号 |
H01L21/336 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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