发明名称 一成分显影装置
摘要 本创作乃关于一种一成份显影装置,在具备有对向感光体开口的外壳,及轴支于外壳内为回转自如的显影辊,及压接于显影辊表面,在该辊表面形成显影剂层之规则构件,及设在前述外壳用以密封形成在规则构件之压接部两端外侧部之显影辊表面与外壳间间隙之密封构件之一成份显影装置中,其特征为,在显影辊上规制构件之压接部份两端附近该压接部之显影辊回转方向上游侧上,装设由显影辊与规则构件所挟持的第2密封构件者。
申请公布号 TW139655 申请公布日期 1990.08.11
申请号 TW079202588 申请日期 1986.12.16
申请人 富士全录股份有限公司 发明人 加藤彰彦;椎名良雄
分类号 G03G15/06 主分类号 G03G15/06
代理机构 代理人 赖经臣 台北巿南京东路三段三四六号白宫企业大楼一一一二室
主权项 1.一位一成份显影装置,在具备有对向感光体开口的外壳,及轴支于外壳内为回转自如的显影辊,及压接于显影辊表面,在该辊表面形成显影剂层之规制构件,及设在前述外壳用以密封形成在规制构件之压接部两端外侧部之显影辊表面与外壳间间隙之密封构件,的一成份显影装置中,其特征为,在显影辊上规制构件之压接部份两端附近该压接部之显影辊回转方向上游侧上,装设由显影辊与规制构件所挟持的第2密封构件者。2.如申请专利范围第1项记载之一成份显影装置,其特征为,前述密封构件与第2密封构件为一体构成者。图示简单说明:第1图为显示本作较佳实施例之一成份显影装置之部份斜视图,第2图为第I图中线 Ⅱ一Ⅱ 剖面图,第3图为第1图所示一成份显影装置之剖面构成图,第4图为第3图中向C箭方向所视图,第5图乃显示以往一成份显影装置一例之剖面构成图,第6图第5图中线 V1一VI剖面图。
地址 日本