发明名称 Flow rate measurement apparatus using a plasma
摘要 본 발명은 외부에서 공급받은 전원을 기 설정 고전압으로 승압한 후, 직류 전원으로 공급하는 직류전원공급부와, 상기 직류전원공급부와 전기적으로 연결된 복수의 +전극과 단일 -전극을 서로 이격시켜 채널을 형성하고, 상기 복수의 +전극과 단일 -전극에 고전압의 직류전원을 인가하여, 채널에서 가우시안(Gaussian) 형태의 플라즈마를 생성하는 플라즈마 방전부와, 상기 플라즈마 방전부의 일측에 배치되어, 플라즈마 방전부에서 생성되는 플라즈마의 상태를 촬영하는 촬영부와, 상기 직류전원공급부와 플라즈마 방전부를 전기적으로 연결한 도전선을 따라 흐르는 전원의 전류를 측정하는 멀티미터 및 유체(가스)가 상기 플라즈마 방전부의 채널을 따라 유동하는 조건에서 상기 멀티미터에 의해 측정된 복수의 +전극에 흐르는 각각의 전류 및 상기 촬영부에서 측정한 플라즈마의 왜곡 형태로 유속을 측정하는 유속측정부를 포함하여, 유속에 따라 전류의 분포가 달라지도록 해 유체의 유속을 측정함에 있어, 신속한 측정반응속도와 정확한 측정값을 제공하는 플라즈마를 이용한 유속 측정장치를 제공한다.
申请公布号 KR101670626(B1) 申请公布日期 2016.10.28
申请号 KR20160018411 申请日期 2016.02.17
申请人 UNIVERSITY OF ULSAN FOUNDATION FOR INDUSTRY COOPERATION 发明人 SHIN, JI CHUL
分类号 G01P5/08;H05H1/46 主分类号 G01P5/08
代理机构 代理人
主权项
地址