| 主权项 |
1.一种用于制作大面积氧化层之设备,其包含有一燃烧器沉积装置及一设于一侧的限压抽气装置;其中一燃烧器沉积装置,该燃烧器沉积装置系于一密闭空间内设一加热器,且加热器设有一可将基材旋转的基材旋转机构,又加热器上设有一可与加热器接触的均热座,均热座上用以设置基材,且加热器上方设有一燃烧器抽气组,该燃烧器抽气组系由可同步作动的燃烧器管与抽气所组成;一限压抽气装置,该限压抽气装置则系设于一箱体侧壁利用一抽气主管连接燃烧器沉积装置的侧壁,且箱体顶面另设有一可将处理后废气排出的排气主管,又箱体底端与顶端间设有一输水用的输水管,输水管上段在箱体内部中央设有一可形成两层水幕的旋转机构;藉此,组构成一氧化层沉积均匀、且可用于制作大面积氧化层之设备。2.如申请专利范围第1项所述之用于制作大面积氧化层之设备,其中,基材旋转机构系于加热器的一端形成有一透孔,且基材旋转机构系由一旋转缸及一伸缩缸所构成,其中旋转缸与伸缩缸可同时作动一透孔的伸杆,以供利用伸杆顶升旋转基材。3.如申请专利范围第2项所述之用于制作大面积氧化层之设备,伸杆顶端设有一旋盘,以提升基材旋转时的稳定性。4.如申请专利范围第1项所述之用于制作大面积氧化层之设备,其中该加热器上设有一框板,该框板中形成有一中空孔,其中均热座可置于该孔中并直接接触于加热器上,且该框板可带动均热座滑移于加热器上。5.如申请专利范围第1项或第4项中所述之用于制作大面积氧化层之设备,其中该框板底部两侧分别设有轨导座,该轨导座可滑设于分设在加热器两侧的滑轨上,使框板可贴近加热器滑移。6.如申请专利范围第1项所述之用于制作大面积氧化层之设备,其中,燃烧器抽气装置系设有一连接驱动装置的动作杆,动作杆对应框板的端部设有一横向的固定架,而燃烧器管与抽气管则系设于固定架的两端。7.如申请专利范围第1项所述之用于制作大面积氧化层之设备,其中,燃烧器抽气组的燃烧器喷口与基材表面间距离L1小于10cm,而抽气管开口与基材表面间距离L2小于5cm,又抽气管口径D1与抽气管开口至燃烧器管开口距离D2之比値为D1:D2大于1/10小于1。8.如申请专利范围第1或6或7项所述之用于制作大面积氧化层之设备,其中燃烧器抽气组移动的速度V1与框板基材移动的速度V2之比値为V1/V2大于1/50小于10。9.如申请专利范围第1项所述之用于制作大面积氧化层之设备,其中,限压抽气装置箱体之抽气主管与排气主管内分设有过滤装置,以提供过滤作用。10.如申请专利范围第1或9项所述之用于制作大面积氧化层之设备,其中,箱体下方另设有填加硷性液体之注液口。11.如申请专利范围第1项所述之用于制作大面积氧化层之设备,其中,输水管内设有抽动水源的泵浦。12.如申请专利范围第1或11项所述之用于制作大面积氧化层之设备,其中,输水管内设有一酸硷检测器,用来检测水中的酸硷値。13.如申请专利范围第1项所述之用于制作大面积氧化层之设备,其中,伸管上段向下延伸有一较小径且具有出水孔的伸管。14.如申请专利范围第1项所述之用于制作大面积氧化层之设备,其中,旋转机构系于伸管上枢设有一中空旋体,旋体上方于伸管上另设有一可形成第一道水幕覆片,另旋体侧壁分设有系列内部具导管的叶片管,且导管于叶片管中央形成喷水口,以利用离心力形成第二道水幕。15.如申请专利范围第1或13或14项所述之用于制作大面积氧化层之设备,其中旋体上、下分设有上、下盖板。16.一种用于制作大面积氧化层之设备,其包含有一燃烧器沉积装置及一设于一侧的限压抽气装置;其中一燃烧器沉积装置,该燃烧器沉积装置系于一密闭空间内设一加热器,且加热器设有一可将基材旋转的基材旋转机构,又加热器上设有一可与加热器接触的均热座,均热座上用以设置基材,且加热器上设有一燃烧器抽气组,该燃烧器抽气组系由可同步作动的燃烧器管与抽气所组成;藉此,组构成一氧化层沉积均匀、且可用于制作大面积氧化层之设备。17.如申请专利范围第16项所述之用于制作大面积氧化层之设备,其中,基材旋转机构系于加热器的一端形成有一透孔,且基材旋转机构系由一旋转缸及一伸缩缸所构成,其中旋转缸与伸缩缸可同时作动一透孔的伸杆,以供利用伸杆顶升旋转基材。18.如申请专利范围第17项所述之用于制作大面积氧化层之设备,伸杆顶端设有一旋盘,以提升基材旋转时的稳定性。19.如申请专利范围第16项所述之用于制作大面积氧化层之设备,加热器上设有一框板,该框板中形成有一中空孔,其中均热座可置于该孔中并直接接触于加热器上,且该框板可带动均热座滑移于加热器上。20.如申请专利范围第16项或第19项中所述之所述之用于制作大面积氧化层之设备,其中该框板底部两侧分别设有轨导座,该轨导座可滑设于分设在加热器两侧的滑轨上,使框板可贴近加热器滑移。21.如申请专利范围第16项所述之用于制作大面积氧化层之设备,其中,燃烧器抽气装置系设有一连接驱动装置的动作杆,动作杆对应框板的端部设有一横向的固定架,而燃烧器管与抽气管则系设于固定架的两端。22.如申请专利范围第16项所述之用于制作大面积氧化层之设备,其中,燃烧器抽气组的燃烧器管喷口与基材表面间L1矩小于40cm,而抽气管开口与基材表面间距L2离小于5cm,又抽气管口径D1与抽气管开口至燃烧器管开口距离D2之比値为D1:D2大于1/10小于1。23.如申请专利范围第16或21或22项所述之用于制作大面积氧化层之设备,其中燃烧器抽气组移动的速度V1与框板基材移动的速度V2之比値为V1:V2大于1/50小于10。图式简单说明:第一图:系本创作之平面示意图。第二图:系燃烧器沉积装置的立体分解图,其显示各组件的态样及其相对关系。第三图:系燃烧器沉积装置的侧视平面示意图。第四图:系燃烧器沉积装置的俯视平面示意图,显示燃烧器抽气组的移动状态。第五图:系燃烧器沉积装置的另一例视平面示意图,用来显示基材旋转的态样。第六图:系燃烧器沉积装置的另一俯视平面示意图。第七图:系本创作限压抽气装置的平面示意图。第八图:系本创作限压抽气装置的立体分解图,说明其各组件的态样与相对位置。第九图:系本创作限压抽气装置的动作示意图。 |
