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Método de fotograbado de clisés de rejilla, en el que se utiliza un positivo semitónico, caracterizado en que comprende las operaciones de exponer un material fotosensible a una fuente luminosa a través de una rejilla de grabado dotada del número deseado de líneas transversales transparentes, exponer dicho material fotosensible a la fuente luminosa a través del mencionado positivo semitónico, exponer el mismo material fotosensible a la fuente luminosa mediante interposición de una lámina difusora entre el citado positivo semitónico y el material fotosensible y efectuar las siguientes operaciones de producción de placas, siendo variable el orden de las citadas operaciones de exposición.
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