| 主权项 |
1.制备一具下面结构之2-(1H)- 诺酮之方法 或其制药上可接受之盐类, 其中“Het"为呲咯基、咪唑基、呲 唑基、三唑或四唑基这些基团可任意 被取代,最高可达3个取代基,每一 个取代基均单独选自C1-C4烷基 ,C1 -C4 烷氧基、羟基、卤素、 三氟甲基、氰基、羟甲基、(C1- C4 烷氧基)羰基、硝基、 - CONR 1R2 和-NR 1R2 其中R1 和R2 为各自独立为氢或C1-C4 烷基,Het系藉一氮原子与该 诺酮 上之6-位置上的碳连接;R连接到 5-,7-或8-位者为氢,C1- C4 烷基,C1-C4 烷氧基、羟基 、CF3 、卤素、氰基或羟甲基;介 于3- 和4- 位之间的虚线代表一任 意键,其特征是由下列通式之化合物 (Ⅱ)(或其酸加成盐类)环化, 其中接于苯环上之4- 位置的“Het "和接在苯环上之3- ,5- ,6- 位置上的R之定义如上;Q为一离去 基,因此产生具下面通式(IA)之 化合物: 其中“Het"和R之定义与通式(I) 化合物中之定义相同,该反应可任意 地伴随看一者或以上之下列步骤: (a)还原通式(IA)之化合物使 生成对应之3,4-二氢衍生 物; (b)硝化通式(IA)之化合物以 生成在“Het"上具一硝基取 代之对应化合物。 (c)还原通式(I)中,Het上之 硝基取代基,使生成相对应之 氨基取代化合物; (d)卤化通式(I)之化合物,以 将一卤素取代基引入“Het" 上或 诺酮基之8- 位置上; (e“Het"为氨基取代之化合物 转换为氰基一取代,其系经 Sandmeyer反应; (f)以金属氰化物将“Het"为溴 或碘取代之通式(I)化合物 转换为“Het"为氰基取代者 ;以及 (g)通式(I)之化合物转为制 药上可接受之盐类。2.依请求专利部份第1.项之方 法,其特 征在于环化反系在硫酸中进行反应 。3.依请求专利部份1.或2.项之方法, 其特征在于Q是C1-C4烷氧基。4.制备依请求专利部 份第1.项所定义之 通式(I)之化合物,其中“Het" 是一1,2,4-三唑-4-基基团 和R如请求专利部份第1.项内所定义 ,或其制药上可接受之盐类的方法。 其特征在于下面通式(Ⅲ)之化合 物 与1,2-二甲醯胼反应,因而生成 具下面通式(IC)之化合物: 该反应可任意地伴随着依请求专利部 份第1.项内所定义之(a)到(g) 中之一或更多步骤完成此反应。5.制备依请求专 利部份第1.项内所定义 之结构式(I)之化合物或其制药上 可接受之盐类的方法,其特征在于将 下面通式(Ⅳ)之化合物去甲基化; 其中“Het"和R如请求专利部份第 1.项内所定义,因而生成具下面通式 (IA)之化合物: 该方法可任意地伴随着依请求专利部 份第1.项内所定义(a)到(g)步 骤中任意一或更多步骤。6.依请求专利部份第5.项 之方法,其特 征在为甲基反应系在无机酸水溶液中 进行。7.依请求专利部份第6.项之方法,其特 征为去甲基反应是在盐酸水溶液或氢 溴酸水溶液中进行。8.制备依请求专利部份第1.项 所定义之 通式(I)之化合物或其制药上可接 受之盐类的方法,其特征在于以盐酸 环化通式(V)之化合物: 其中,R和Het如请求专利部份第l. 项内所定义,因而生成具下列通式( IA)之化合物: 此方法可任意地伴随着依请求专利部 份第1.项内所定义(a)到(g)中 一或更多步骤而完成。9.如请求专利部份第1.项所 定义之通式 (I)之-3,4-二氢-2-( lH)- 诺酮之制备方法: 其特征在于氢化下面通式(V)之化 合物; 其中, R和“Het"如请求专利部份第 1.项内所定义,以生成具下面通式( Ⅵ) 之化合物: 随后将化合物(Ⅵ)在一有机溶剂内 加热行环化反应,而生成下面通式( IB)之化合物: 该反应方法可任意地伴随着如请 求专利部份第1.项所定义之(a)到 (g)步骤中一或多个步骤。10.制备依请求专利部份 第1.项所定义之 通式(I)化合物或其制药上可接受 之盐类的方法,其特征系为下面通式 (x)之化合物: 与具下面通式之Wittig试剂进行反 应, M为一喊金属, 由此制得具有下面通式(IA)之化 合物: 此反应可任意地伴随着依请求专利部 份第1.项内所定义之(a)到(g) 中一或更多的步骤。11.依请求专利部份之任一项 的方法,其 特征为R是氢,C1-C4烷基, CF3或卤素。12.依请求专利部份第1.至3.项和第5.至 10.项申之任一方法,其特征为(a) “Het"为咪唑基、呲唑基、三唑基 或四唑基,此等基团可任意被取代, 最高取代基可达3个,每一个取代基 分别选自C1-C4 烷基,三氟甲基 、硝基、氨基、氰基和卤素,(b) R是接到 诺酮之8- 位上,系为氢 ,C1-C4 烷基,三氟甲基或卤素13.依请求专利部份第12 .项之方法,其特 征为(a)“Het"是-咪哩-1- 基,2-甲基咪挫-1-基,4-甲 基咪哩-1-基,5-甲基咪哩-l -基,1,2,4-三唑-l-基, 2,4-二甲基咪唑-1-基,呲咯 -l-基,4-三氟甲基-咪哩-1 -基,四唑-1-基,3,5-二甲 基-1,2,4-三唑-1-基,3 ,5-二甲基-1,2,4-三唑- 4-基,四唑-2-基,1,2,4 -三唑-4-基,2,4-二甲基- 5-硝基咪唑-1-基,5-硝基- 4-甲基咪唑-l-基,5-氨基- 2,4-二甲基一咪唑-1-基,5 -溴-2,4-二甲基咪唑-l-基 ,5-氰基-2,4-二甲基咪唑- 1-基,2-甲基-4-氰基-l- 基,2-氰基-4-甲基咪唑-1- 基或2-碘-4-甲基咪唑-1-基 ;(b)R是氢,甲基,三氟甲基或 溴。14.依前面请求专利部份中之任何一项之 方法,其特征为3-和4-位之间为 一双键。15.依请求专利部份第13.项之方法,其特 征在于(a)“Het"是-2,4- 二甲基咪唑-l-基,2,4-二甲 基-5-硝基咪唑-1-基,四唑- 1-基或1,2,4-三唑-4-基 ,(b)R是甲基,和(c) 诺酮 上3-和4-位间为一双键。16.依请求专利部份第1.到 第3.项中任一 方法,其特征为R为氢,C1-C4 烷基、C1-C4烷氧基、羟基、三 氟甲氧或卤素,其方法可任意地伴随 着依请求专利部份第1.项内所定义之 步骤(a)和/ 或(g)。 |
