| 主权项 |
1.一种适用于片面金属表面精制的水溶液, 包含:水、一种水溶性草酸酯化合物、一 种水溶性硝酸酯化合物、及一种水溶性过 氧化合物;该溶腋具有一足够份量之该草 酸酯化合物以提供大约每公升0.125至0﹒ 65克莫耳之草酸酯基团、一足够份量之该 硝酸酯化合物以提供至少大约每公升0.0 04克莫耳之硝酸酯基团、及一足够份量之 该过氧合物以提供每公升0.001至0.05克 莫耳之过氧化物基团。2.如申请专利范围第1项所 述之溶液,其中 该硝酸酯化合物提供每公升高达0.2克莫 耳的硝酸酯基团。3.如申请专利范围第1项所述之 溶液,其中 该草酸酯化合物提供每公升纺0.25至0.45 克莫耳之草酸酯基团,其中该硝酸酯化合 物提供每公升大约0.05至0.11克莫耳之硝 酸酯基团,又其中该过氧合物提供每公升 大约0.01至0.03克莫耳之过氧化基团。4.如申请专利 范围第1项所述之溶液,包含 大约每公升0.4克莫耳之草酸酯基团,大 约每公升0.1克莫耳之硝酸酯基团,及每 公升0.02克莫耳之过氧化基团。5.如申请专利范围 第1项所述之溶液,又包 含一有效份量之湿化剂。6.如申请专利范围第1项 所述之溶液。其中 该草酸酯化合物系草酸,该硝酸酯化合物 系硝酸钠,而该过氧化合物系过氧化氢, 且该溶液具有大约1.5至3.0的PH値。7.一种添加水之 后可提供一水溶液适用于金 属表面精制之成份,包含:一种水溶性草 酸酯化合物、一种水溶性硝酸酯化合物、 及一种水溶性过氧化合物;该成份具有足 够份量之所述化合物,在以一公升水稀解 后,能提供约0.125至0.65克莫耳之草酸 酯基团、至少0.004克莫耳之硝酸酯基团 、及0.001至0.05克莫耳之过氧化物基团 。8.如申请专利范围第7项所述之成份,其中 该化合物在正常条件下系为固体,该成份 系为大致乾粉之形式。9.如申请专利范围第8项所 述之成份,其中 该草酸酯化合物系草酸,该硝酸酯化合物 系硝酸钠,而该过氧化合物系选包括有过 硼酸钠、过碳酸钠、过硫酸钠、过硫酸铵 、及过硫酸钾之族群。10. 一种物体之金属表面精 制之程序,其步骤 包括: (a)提供一种水溶液,其含有水、一种水 溶性草酸酯化合物、一种水溶性硝酸酯 化合物、及一种水溶性过氧化合物,该 溶液具有一足够份量之该草酸酯化合物 以提供大约每公升0.125至0.65克莫耳 之草酸酯基团、一足够份量之该硝酸酯 化合物以提供至少大约每公升0.004克 莫耳之硝酸酯基团、及一足够份量之该 过氧合物以提供每公升0.001至0.05克 莫耳之过氧化物基团; (b) 在一大量加工单元之容器中,投入一 大量物料,其含有一个数量的具有金属 表面的物体; (c) 以该溶液弄湿该些大量物料; (d) 在该些表面仍维持于被该溶液弄湿的 清况下,迅速搅拌该大量物料,该搅拌 动作使得该些物料之间产主相对的移动 与接触;及 (e) 继续该搅拌步骤一段足够的时段以明 显降低该表面的粗度。11. 如申请专利范围第10项 所述之程序,其 中该溶腋含有大约每公升0.25至0.45克莫 耳之草酸酯基团,其中该硝酸酯化合物提 供大约公升0.05至0.11克莫耳之硝酸酯基 团,又其中该过氧化合物提供大约每公升 0.01至0.03克莫耳之过氧化基团。12. 如申请专利范 围第10项所述之程序,其 中该大量物料包括一数量之大量加工介质 。13. 如申请专利范围第10项所述之程序,其 中该金属表面在投入操作之际,具有超过 大约30的粗度算术平均値,又其中该明显 粗度降低造成一大约为6之粗度算术平均 値。14. 如申请专利范围第13项所述之程序,其 中该搅拌步骤之时段系大约4小时或更少15. 如申 请专利范围第14项所述之程序,其 中该搅拌步骤使得该溶液产生连续充氧作 用。16. 如申请专利范围第15项所述之程序,其 中该溶液系一大约等于该大量加工单元容 器之体积之15至25%而提供者。17. 如申请专利范围 第10项所述之程序,其 中该物体表面之金属系选自包含铁与基合 金之群。 |
