用于衰减相移罩之自动对准不透明区域

摘要

本发明系关于制造一种衰减相移之光学石版印刷罩，在本发明的一个特别具体实施例中，首先经由淀积一个均匀厚度之矽化钼层（１１）在石英（１０）的顶平面之表面上。该矽化钼层具有之厚度足够充作相移罩中之一个衰减（部份地透明）层。将一个均匀厚度铬层（１２）淀积在该矽化钼层上。该铬层具有之厚度足够充作相移罩中之一个不透明层。其次，该铬层经由乾湿或蚀刻予以形成图型同时将该铬使用一个最先形成图型之抗蚀层（１３）予以选择性掩罩。然后使用所产生之形成图型之铬层作为保护层经由乾或湿蚀刻将矽化钼层形成图型；因此形成矽化钼和铬的一个复合层具有相互分开之复合条带（３１，３２）。移去任何留下之抗蚀层。其次将少许的此等相互分开之条带的顶和侧壁表面，但并非其他者使用第二层之经形成图型之抗蚀层（１５）予以盖覆。最后（号６），将铬层而非矽化钼层自其他的相互分开之复合条带上移去。图２，５，６

主权项

1. 一种制造一个光学石版印刷罩的方法包括下列步骤:(a) 提供具有一个顶表面之基体(10),将第一层(11)定位在其上,该第一层对于具有波长的光辐射系部份透明;(b) 淀积与第一层化学上不同之第二层(12)在第一层的顶表面上,该第二层系十分地厚以便与第一层相联合时对于具有波长之光辐射呈不透明;(c) 形成第一经形成图型之抗蚀层在第二层的顶表面上;(d) 蚀刻第一层和第二层,使用第一经形成图型之抗蚀层作为一个保护层对抗蚀刻第二层并使用第一经形成图型之抗蚀层或所产生之经形成图型之第二层作为一个保护罩对抗蚀刻第一层,因此形成第一经形成图型之不透明层(31,32)具有经间隔分开之区域每一区域具有经由至少一个侧壁予以界限之一个顶表面;(e) 形成第二经形成图型之抗蚀层(图5;15;图7:17)此抗蚀层盖覆经间隔分开之区域的整个顶表面及在至少一些但并非全部的经间隔分开之区域之整个空间;(f) 使用第二经形成图型之抗蚀层作为一个保护罩对抗蚀刻经形成图型之第二层,仅蚀刻经形成图型之第二层的所暴露部份因此形成第二经形成图型之不透明层及一个经形成图型之部份透明层。2. 如申请专利范围第1项之方法,其中在步骤(e)期间,第二经形成图型之抗蚀层仅盖覆至少一个但并非全部的经间隔分开之区域的一部份顶表面。3. 如申请专利范围第1项之方法,其中在步骤(e)期间,该第二经形成图型之抗蚀层仅盖覆至少一对的经间隔分开之区域间之部份空间。4. 如申请专利范围第1项之方法,继以剥离第二经形成图型之抗蚀层。5. 如申请专利范围第1,2,3或4项之方法,其中在步骤(c)系经由下列各步骤予以实施:使用第一经形成图型之抗蚀层作为第一保护罩对抗蚀刻来仅大致蚀刻该第二层,继以移去第一经形成图型之抗蚀层,继以使用所产生之经形成图型之第二层作为第二保护罩来仅蚀刻第一层。图示简单说明:图1描述使用于实施本发明之一种光学石版印刷系统;及图2至6描述依照本发明的一特殊具体实施例予以制造之相移罩的各种连续阶段之截面正视图。图7至8描述依照本发明的另外特殊具体实施例,制造相移