发明名称 | 多阶记忆胞与其制造方法 | ||
摘要 | 一种多阶记忆胞,其系由基底、绝缘层、矽条状物、第一控制闸极、第二控制闸极、源极/汲极区与氧化矽/氮化矽/氧化矽复合介电层所构成。绝缘层与矽条状物依序配置于基底上,另外,第一控制闸极与第二控制闸极系分别设置于矽条状物之侧壁,而源极/汲极区系设置于第一控制闸极与第二控制闸极两侧之矽条状物中。复合介电层系设置于第一控制闸极与矽条状物之间、第二控制闸极与矽条状物之间。由于在单一记忆胞结构中可以储存多位元的资料,因此有助于制程之微小化。 | ||
申请公布号 | TW200425421 | 申请公布日期 | 2004.11.16 |
申请号 | TW092113048 | 申请日期 | 2003.05.14 |
申请人 | 力晶半导体股份有限公司 | 发明人 | 黄丘宗;张格荥 |
分类号 | H01L21/8246 | 主分类号 | H01L21/8246 |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行一路十二号 |