发明名称 多阶记忆胞与其制造方法
摘要 一种多阶记忆胞,其系由基底、绝缘层、矽条状物、第一控制闸极、第二控制闸极、源极/汲极区与氧化矽/氮化矽/氧化矽复合介电层所构成。绝缘层与矽条状物依序配置于基底上,另外,第一控制闸极与第二控制闸极系分别设置于矽条状物之侧壁,而源极/汲极区系设置于第一控制闸极与第二控制闸极两侧之矽条状物中。复合介电层系设置于第一控制闸极与矽条状物之间、第二控制闸极与矽条状物之间。由于在单一记忆胞结构中可以储存多位元的资料,因此有助于制程之微小化。
申请公布号 TW200425421 申请公布日期 2004.11.16
申请号 TW092113048 申请日期 2003.05.14
申请人 力晶半导体股份有限公司 发明人 黄丘宗;张格荥
分类号 H01L21/8246 主分类号 H01L21/8246
代理机构 代理人 詹铭文;萧锡清
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行一路十二号