| 摘要 |
본 발명은 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치는 상부에 기판을 지지한 상태로 회전될 수 있는 스핀 헤드가 제공되는 지지부재; 상기 지지부재에 위치된 상기 기판으로 액을 공급하는 액 공급 노즐을 갖는 노즐부재; 및 상기 지지부재와 상기 노즐부재를 제어하는 제어부재를 포함하되, 상기 제어부재는 상기 액 공급 노즐에서 상기 기판의 상면으로 액이 공급되는 과정에서, 상기 액 공급 노즐이 상기 기판의 회전 중심축에서 반경방향으로 설정 거리 이격된 지점에 위치된 상태로 액을 공급하는 동작을 포함한다. |
