| 发明名称 | 酸槽清洗装置 | ||
| 摘要 | 本实用新型公开一种酸槽清洗装置，所述酸槽清洗装置包括酸槽、用于对所述酸槽中的晶舟进行升降的升降装置，所述升降装置设置于所述酸槽外侧，并且与所述晶舟连接。在酸槽清洗装置发生故障时，利用升降装置控制晶舟的升降，实现晶舟迅速离开酸槽或进入酸槽，避免酸槽中酸液与晶舟中晶圆接触时间过久对晶圆造成的损伤。 | ||
| 申请公布号 | CN205810768U | 申请公布日期 | 2016.12.14 |
| 申请号 | CN201620648965.6 | 申请日期 | 2016.06.22 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造（天津）有限公司;中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 | 发明人 | 干怀渝 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I;H01L21/683(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人 | 屈蘅;李时云 |
| 主权项 | 一种酸槽清洗装置，其特征在于，包括：酸槽、用于对所述酸槽中的晶舟进行升降的升降装置，所述升降装置设置于所述酸槽外侧，并且与所述晶舟连接。 | ||
| 地址 | 300385 天津市西青区中国天津市西青经济开发区兴华道19号 | ||