发明名称 |
LED芯片及其制造方法 |
摘要 |
本发明提供一种LED芯片及其制造方法,所述LED芯片包括衬底,位于衬底上的N型半导体层、发光层、P型半导体层,以及与N型半导体层和P型半导体层分别电性连接的N电极和P电极,所述LED芯片包括刻蚀至N型半导体层的N型台面及若干N型电极槽,N型电极槽的侧壁及P型半导体层上方设有横跨N型电极槽的绝缘介质层,所述绝缘介质层上形成有连接N性电极槽底部与N型半导体层电性连接的第一透明导电层,所述N型台面上设有第一N电极,N型电极槽中的第一透明导电层上设有第二N电极,第一N电极和第二N电极通过第一透明导电层电性连接。本发明LED芯片中电流密度分布均匀,提高了LED芯片的发光性能,且有效增大了有源层的面积,提高了芯片的发光效率。 |
申请公布号 |
CN106206901A |
申请公布日期 |
2016.12.07 |
申请号 |
CN201610785105.1 |
申请日期 |
2016.08.31 |
申请人 |
聚灿光电科技股份有限公司 |
发明人 |
王磊;陈立人;李庆 |
分类号 |
H01L33/38(2010.01)I;H01L33/62(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/38(2010.01)I |
代理机构 |
苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 |
代理人 |
杨林洁 |
主权项 |
一种LED芯片,所述LED芯片包括衬底,位于衬底上的N型半导体层、发光层、P型半导体层,以及与N型半导体层和P型半导体层分别电性连接的N电极和P电极,其特征在于,所述LED芯片包括刻蚀至N型半导体层的N型台面及若干N型电极槽,N型电极槽的侧壁及P型半导体层上方设有横跨N型电极槽的绝缘介质层,所述绝缘介质层上形成有连接N性电极槽底部与N型半导体层电性连接的第一透明导电层,所述N型台面上设有第一N电极,N型电极槽中的第一透明导电层上设有第二N电极,第一N电极和第二N电极通过第一透明导电层电性连接。 |
地址 |
215123 江苏省苏州市工业园区新庆路8号 |