| 发明名称 | 线栅偏光电极及其压印模具和制作方法、显示基板 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种线栅偏光电极及其压印模具和制作方法、显示基板，该偏光电极包括：采用纳米压印技术在基底上形成的：第一线栅，对应于像素开口区，用于透过入射光；第二线栅，覆盖于像素开口区周边的非开口区，用于遮挡入射光。本发明减少了传统的黑色矩阵制程，提高了遮光精度，节省了制作黑色矩阵所需的光罩、工艺及材料等成本，而且提高了生产效率。 | ||
| 申请公布号 | CN106597762A | 申请公布日期 | 2017.04.26 |
| 申请号 | CN201610965129.5 | 申请日期 | 2016.10.28 |
| 申请人 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 发明人 | 李明辉;陈黎暄 |
| 分类号 | G02F1/1343(2006.01)I;G02F1/1335(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I | 主分类号 | G02F1/1343(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 | 代理人 | 吴大建 |
| 主权项 | 一种线栅偏光电极，包括采用纳米压印技术在基底上形成的：第一线栅，对应于像素开口区，用于透过入射光；第二线栅，覆盖于像素开口区周边的非开口区，用于遮挡入射光。 | ||
| 地址 | 518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号 | ||