发明名称 |
石英基Si‑V发光的单颗粒层纳米金刚石薄膜及其制备方法 |
摘要 |
本发明提供了一种石英基Si‑V发光的单颗粒层纳米金刚石薄膜,其制备方法为:用纳米金刚石溶液对石英衬底进行超声振荡预处理;采用热丝化学气相沉积法,在经过预处理的石英衬底上制备得到纳米金刚石薄膜,再将其置于500~650℃的空气中保温10~50min,即制得所述的石英基Si‑V发光的单颗粒层纳米金刚石薄膜;本发明简单易行、容易操作,制备得到的具有强Si‑V发光的单颗粒层纳米金刚石薄膜与石英基体结合力较弱,为剥离获得具有Si‑V发光的纳米金刚石晶粒奠定了良好的基础,这对于实现纳米金刚石在生物标记、单光子源等领域的应用具有十分重要的科学意义和工程价值。 |
申请公布号 |
CN106567054A |
申请公布日期 |
2017.04.19 |
申请号 |
CN201610866132.1 |
申请日期 |
2016.09.30 |
申请人 |
浙江工业大学 |
发明人 |
胡晓君;仰宗春 |
分类号 |
C23C16/27(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/27(2006.01)I |
代理机构 |
杭州天正专利事务所有限公司 33201 |
代理人 |
黄美娟;王兵 |
主权项 |
一种石英基Si‑V发光的单颗粒层纳米金刚石薄膜,其特征在于,所述石英基Si‑V发光的单颗粒层纳米金刚石薄膜按如下方法制备得到:(1)用纳米金刚石溶液对石英衬底进行超声振荡预处理;(2)采用热丝化学气相沉积法,在经过步骤(1)预处理的石英衬底上制备得到纳米金刚石薄膜,再将其置于500~650℃的空气中保温10~50min,即制得所述的石英基Si‑V发光的单颗粒层纳米金刚石薄膜。 |
地址 |
310014 浙江省杭州市下城区潮王路18号 |