发明名称 石英基Si‑V发光的单颗粒层纳米金刚石薄膜及其制备方法
摘要 本发明提供了一种石英基Si‑V发光的单颗粒层纳米金刚石薄膜,其制备方法为:用纳米金刚石溶液对石英衬底进行超声振荡预处理;采用热丝化学气相沉积法,在经过预处理的石英衬底上制备得到纳米金刚石薄膜,再将其置于500~650℃的空气中保温10~50min,即制得所述的石英基Si‑V发光的单颗粒层纳米金刚石薄膜;本发明简单易行、容易操作,制备得到的具有强Si‑V发光的单颗粒层纳米金刚石薄膜与石英基体结合力较弱,为剥离获得具有Si‑V发光的纳米金刚石晶粒奠定了良好的基础,这对于实现纳米金刚石在生物标记、单光子源等领域的应用具有十分重要的科学意义和工程价值。
申请公布号 CN106567054A 申请公布日期 2017.04.19
申请号 CN201610866132.1 申请日期 2016.09.30
申请人 浙江工业大学 发明人 胡晓君;仰宗春
分类号 C23C16/27(2006.01)I 主分类号 C23C16/27(2006.01)I
代理机构 杭州天正专利事务所有限公司 33201 代理人 黄美娟;王兵
主权项 一种石英基Si‑V发光的单颗粒层纳米金刚石薄膜,其特征在于,所述石英基Si‑V发光的单颗粒层纳米金刚石薄膜按如下方法制备得到:(1)用纳米金刚石溶液对石英衬底进行超声振荡预处理;(2)采用热丝化学气相沉积法,在经过步骤(1)预处理的石英衬底上制备得到纳米金刚石薄膜,再将其置于500~650℃的空气中保温10~50min,即制得所述的石英基Si‑V发光的单颗粒层纳米金刚石薄膜。
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