发明名称 显影装置及图像形成装置
摘要 本实用新型提供了显影装置和图像形成装置,该显影装置包括:显影辊、层厚限制部、显影部和显影器盖;该显影器盖设置在所述显影部的下游,并覆盖所述显影辊且与所述显影辊之间形成第一间隙路径;所述第一间隙路径中,相对所述显影辊的轴方向的部,两端部的间隙宽度小于部;在所述部内安装有一侧边与所述显影器盖的内表面连接,另一侧边与所述显影辊表面的显影剂层抵接的阻隔件,所述阻隔件切断所述第一间隙路径,且在所述阻隔件的两端形成第二间隙路径。本实用新型能够完全防止显影装置内部的色调剂粉由其两端和部飞散。
申请公布号 CN206115145U 申请公布日期 2017.04.19
申请号 CN201621040397.8 申请日期 2016.09.06
申请人 株式会社东芝;东芝泰格有限公司 发明人 泉贵雄;高桥伸彰
分类号 G03G15/08(2006.01)I 主分类号 G03G15/08(2006.01)I
代理机构 北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙) 11390 代理人 胡剑辉
主权项 显影装置,其特征在于,包括,显影辊,保持显影剂并在旋转的同时输送显影剂;层厚限制部,对所述显影辊上的显影剂的层厚进行限制;显影部,从所述层厚限制部在显影剂输送方向下游侧,接近感光体并将色调剂显影至感光体;显影器盖,设置在所述显影部的下游,并覆盖所述显影辊且与所述显影辊之间形成第一间隙路径;所述第一间隙路径中,相对所述显影辊的轴方向的中央部,两端部的间隙宽度小于中央部;在所述中央部内安装有一侧边与所述显影器盖的内表面连接,另一侧边与所述显影辊表面的显影剂层抵接的阻隔件,所述阻隔件切断所述第一间隙路径,且在所述阻隔件的两端形成第二间隙路径。
地址 日本东京都