圆柱磁控溅射阴极

摘要

一种圆柱磁控溅射阴极，其包括靶材、磁靴、至少一磁体装置及至少一安装座，所述磁靴装设在所述靶材的内部，所述安装座可拆卸地设置在所述磁靴上，所述安装座用以可拆卸地固定所述磁体装置；所述磁体装置包括二第一磁体及一第二磁体；所述安装座包括二第一平台及一第二平台，所述第一平台对称设置在所述第二平台的两侧，所述第一平台与第二平台之间的相对高度可改变，每一第一磁体可拆卸地安装在一第一平台上，每一第二磁体可拆卸地安装在一第二平台上。本发明圆柱磁控溅射阴极，可通过改变安装座的第一平台与第二平台之间的相对高度或通过更换安装座，以满足镀膜过程中不同的沉积速率及均匀程度的需求。

主权项

一种圆柱磁控溅射阴极，其包括靶材、磁靴及至少一磁体装置，所述磁靴装设在所述靶材的内部，所述磁体装置包括二第一磁体及一第二磁体，其特征在于：所述圆柱磁控溅射阴极还包括至少一安装座，所述安装座可拆卸地设置在所述磁靴上，所述安装座用以可拆卸地固定所述磁体装置；所述安装座包括二第一平台及一第二平台，所述第一平台对称设置在所述第二平台的两侧，所述第一平台与第二平台之间的相对高度可改变，每一第一磁体可拆卸地安装在一第一平台上，每一第二磁体可拆卸地安装在一第二平台上。