| 摘要 |
【目的】マルチビームを成形するアパーチャ径誤差に起因するドーズ量誤差を低減する。【構成】本発明の一態様のマルチ荷電粒子ビームの描画方法は、画素毎に、１回のショットあたりの最大照射時間のショットが分割された、同じ画素に連続して行われる複数の分割ショットの各分割ショットをマルチビームの一括偏向により切り替え可能な複数のビームの少なくとも１つに割り振る工程と、画素毎に、当該画素に照射されるビームの照射時間を演算する工程と、画素毎に合計照射時間が演算されたビームの照射時間に相当する組合せになるように複数の分割ショットの各分割ショットをビームＯＮにするか、ビームＯＦＦにするかを決定する工程と、マルチビームの一括偏向により複数のビームを切り替えながら、当該画素に、同じ画素に連続して行われる複数の分割ショットのうちビームＯＮになる複数の対応分割ショットを複数のビームを用いて行う工程と、を備えたことを特徴とする。【選択図】図８ |
