发明名称 | 基板处理设备 | ||
摘要 | 基板处理设备具有处理腔、用以在处理腔内保持基板的基板保持器、设置在基板保持器的外周部处的第一屏蔽件以及设置在处理腔的内侧的第二屏蔽件。处理腔的内部空间至少由第一屏蔽件、第二屏蔽件以及基板保持器划分为外部空间和用以对基板进行处理的处理空间。基板保持器能够沿着与保持基板的基板保持面相垂直的驱动方向被驱动。在由第一屏蔽件和第二屏蔽件所形成的间隙中,在与驱动方向相垂直的方向上尺寸为最小的最小间隙部分的在与驱动方向相平行的方向上的长度就算是基板保持器沿驱动方向被驱动也不会改变。 | ||
申请公布号 | CN104884667B | 申请公布日期 | 2017.03.22 |
申请号 | CN201380068235.8 | 申请日期 | 2013.11.28 |
申请人 | 佳能安内华股份有限公司 | 发明人 | 岛根由光;内野聪;秋山进;松尾和昭;山口述夫 |
分类号 | C23C14/34(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/34(2006.01)I |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 林振波 |
主权项 | 一种基板处理设备,包括:处理腔;排气部,用以从处理腔排气;气体导入部,用以将气体导入至处理腔内;基板保持器,用以在处理腔内保持基板;第一屏蔽件,设置在基板保持器的外周部处;和第二屏蔽件,设置在处理腔的内侧,其中,处理腔的内部空间至少由第一屏蔽件、第二屏蔽件以及基板保持器划分为外部空间和对基板进行处理的处理空间,基板保持器能够沿着与保持基板的基板保持面相垂直的驱动方向被驱动,当基板保持器沿着驱动方向被驱动时,第一屏蔽件和第二屏蔽件之间的相对位置发生改变,第一屏蔽件以及第二屏蔽件设置成使得不会产生从处理空间的中心或者是基板保持器的中心轴线到外部空间的直线路径,第一屏蔽件和第二屏蔽件布置成使得在第一屏蔽件和第二屏蔽件之间形成多个间隙部分,在该多个间隙部分中包括在与驱动方向相垂直的方向上尺寸为最小的最小间隙部分,以及即使当基板保持器在驱动方向上被驱动时第一屏蔽件和第二屏蔽件之间的相对位置发生改变,该最小间隙部分的在与驱动方向相平行的方向上的长度也不会改变。 | ||
地址 | 日本神奈川 |