发明名称 |
高压沟槽结势垒肖特基二极管 |
摘要 |
本发明涉及一种肖特基二极管,其具有:n<sup>+</sup>衬底;n外延层;至少两个置入到n外延层中的p参杂沟槽;台面区域,其处于相邻沟槽之间;充当阴极电极的金属层;以及充当阳极电极的另外的金属层。外延层的厚度大于沟槽的深度的四倍。 |
申请公布号 |
CN103959479B |
申请公布日期 |
2017.03.22 |
申请号 |
CN201280059059.7 |
申请日期 |
2012.11.12 |
申请人 |
罗伯特·博世有限公司 |
发明人 |
N.屈;A.格拉赫 |
分类号 |
H01L29/861(2006.01)I;H01L29/872(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/861(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
杜荔南;胡莉莉 |
主权项 |
一种肖特基二极管,具有:-n<sup>+</sup>衬底(10),-n外延层(20),其具有厚度D_epi,-至少两个置入到n外延层(20)中的沟槽(70),所述沟槽(70)分别具有宽度Wt和深度Dt,-台面区域(80),其处于相邻的沟槽 (70)之间,其中所述台面区域(80)分别具有宽度Wm,-处于所述肖特基二极管的n<sup>+</sup>衬底(10)背侧(R)的充当阴极电极的金属层(60),以及-处于所述肖特基二极管的前侧(V)的充当阳极电极的金属层(50),所述金属层(50)与沟槽(70)形成欧姆接触并且与n外延层(20)形成肖特基接触,其特征在于,-针对沟槽(70)的深度Dt和n外延层(20)的厚度D_epi有下列关系成立:<img file="dest_path_image001.GIF" wi="95" he="23" />,其中<img file="dest_path_image002.GIF" wi="49" he="23" />,-针对沟槽(70)的深度Dt与台面区域(80)的宽度Wm的比例有如下关系成立:<img file="dest_path_image003.GIF" wi="92" he="25" />,-并且有下式成立:<img file="dest_path_image004.GIF" wi="122" he="23" />,其中NA是沟槽(70)的掺杂浓度,Wt是沟槽(70)的宽度,ND是n外延层(20)的掺杂浓度,并且Wm是两个沟槽(70)之间的台面区域(80)的宽度。 |
地址 |
德国斯图加特 |