发明名称 |
粒子射线治疗系统及其射束位置校正方法 |
摘要 |
本发明的粒子射线治疗系统包括对带电粒子射束进行加速的加速器系统、以及将从该加速器射出的高能量射束输送到照射位置的射束输送系统,所述射束输送系统中具备至少一个转向电磁铁和与该转向电磁铁相对应的至少一个射束位置监视器,所述射束位置监视器向所述转向电磁铁提供对周期性变动的射束位置进行校正的励磁电流。 |
申请公布号 |
CN103917274B |
申请公布日期 |
2017.03.22 |
申请号 |
CN201280054629.3 |
申请日期 |
2012.09.21 |
申请人 |
三菱电机株式会社 |
发明人 |
花川和之;菅原贤悟;小田原周平;原田久;池田昌广;大谷利宏;本田泰三;吉田克久 |
分类号 |
A61N5/10(2006.01)I;G21K5/04(2006.01)I;H05H7/04(2006.01)I;H05H13/04(2006.01)I |
主分类号 |
A61N5/10(2006.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 31100 |
代理人 |
俞丹 |
主权项 |
一种粒子射线治疗系统,包括对带电粒子射束进行加速的同步加速器、以及将从该同步加速器射出的高能量射束输送到照射位置的射束输送系统,其特征在于,所述射束输送系统中具备2个转向电磁铁和与这些转向电磁铁相对应的2个射束位置监视器,第一射束位置监视器设置于第二转向电磁铁的前方,利用所述第一射束位置监视器的检测信号对第一转向电磁铁的励磁电流进行调整,并且第二射束位置监视器设置于第二转向电磁铁的后方,利用所述第二射束位置监视器的检测信号对所述第二转向电磁铁的励磁电流进行调整,进而与周期性运行的所述同步加速器同步地分别对应于所述第一转向电磁铁和所述第二转向电磁铁加上校正电流图案信号,其中,所述校正电流图案信号对周期性变动的射束位置变动进行校正。 |
地址 |
日本东京 |