发明名称 半導体装置
摘要 【課題】リーク電流を抑制可能な半導体装置を提供する。【解決手段】実施形態によれば、第1〜第3半導体領域と、第1〜第3導電部と、を備えた半導体装置が提供される。第2半導体領域は、第1半導体領域と第1方向において離間して設けられている。第3半導体領域は、第1半導体領域と第2半導体領域との間に設けられる。第1導電部は、第1半導体領域と電気的に接続される、第2導電部は、第2半導体領域と電気的に接続される。第3導電部は、第1方向と交差する第2方向において、第3半導体領域と離間する。第3半導体領域は、非晶質の第1部分領域と、多結晶の第2部分領域と、を含む。第1部分領域は、第1金属を含む。第2部分領域は、第2方向において第1部分領域と積層されている。第2部分領域における第1金属の第1濃度は、第1部分領域における第1金属の第2濃度よりも低い、または、第2部分領域は、第1金属を含まない。【選択図】図1
申请公布号 JP2017054981(A) 申请公布日期 2017.03.16
申请号 JP20150178803 申请日期 2015.09.10
申请人 株式会社東芝 发明人 小田 穣;佐久間 究;齋藤 真澄
分类号 H01L29/786;H01L21/265;H01L21/28;H01L21/768;H01L23/522;H01L27/105;H01L29/41;H01L29/417 主分类号 H01L29/786
代理机构 代理人
主权项
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