摘要 |
Vorrichtung zum Aufbringen eines mit UV-Strahlung beaufschlagten flüssigen Mediums auf ein Substrat, die Folgendes aufweist: ein Gehäuse, mit einer langgestreckten Kammer, wenigstens einer Einlassöffnung, die sich zur Kammer hin öffnet und einer der wenigstens einen Einlassöffnung gegenüberliegenden, schlitzförmigen Auslassöffnung, die sich über die Länge der Kammer erstreckt; ein sich in Längsrichtung durch die Kammer erstreckendes Rohrelement, das wenigstens teilweise für UV-Strahlung transparent ist, wobei das Rohrelement derart in der Kammer angeordnet ist, dass zwischen dem Rohrelement und der Wand der Kammer ein Strömungsraum gebildet wird, der bezüglich einer Längsmittelebene der Kammer, die die Auslassöffnung mittig schneidet, symmetrisch ist, und dass sich das Rohrelement in die schlitzförmige Auslassöffnung im Gehäuse erstreckt und dabei zwei in Längsrichtung erstreckende Austrittsschlitze zwischen Rohrelement und Gehäuse bildet; und wenigstens eine UV-Strahlungsquelle im Rohrelement, die angeordnet ist, um UV-Strahlung in Richtung des Strömungsraumes und durch die Auslassöffnung aus dem Gehäuse heraus zu emittieren, um Radikale in der Flüssigkeit zu erzeugen und auf die Oberfläche des Substrat zu bringen; gekennzeichnet durch Mittel, die geeignet sind, die von der wenigstens einen UV-Strahlungsquelle ausgehenden und aus der Auslassöffnung austretenden Strahlung, derart zu beeinflussen, dass in einem Bereich unterhalb wenigstens 50% der Austrittsöffnung eine im Wesentlichen homogene räumliche Verteilung der Radikalen auf der Oberfläche des Substrats entsteht. |